Diagram konseptual dari masukan, fungsi bagian, dan keluaran dalam profil. Susunan kotak tidak menunjukkan urutan perakitan atau posisi fisik.
Teknologi · CC BY 4.0 · Sumber data
Bagaimana cara kerjanya?
Penguapan atau pelepasan dari sumber menghasilkan atom material di ruang proses. Atom bergerak ke substrat dan membentuk lapisan; gas reaktif dapat digunakan untuk menghasilkan senyawa.
Rujukan penjelasanBagian penyusun
- 01
Sumber material
Memasok atom pelapis
- 02
Ruang proses
Mengatur lingkungan pengendapan
Masukan dan keluaran
Material sumber dan energi
Lapisan tipis permukaan
Parameter teknis
Informasi dengan rujukan belum tersedia untuk bagian ini. Profil ini tidak menyajikan spesifikasi angka untuk model tertentu atau nilai yang berlaku bagi seluruh keluarga teknologi.
Versi dan status
Profil membahas konsep atau kategori teknologi; versi implementasi tertentu belum ditetapkan.
Status terbit profil berbeda dari status produksi, dukungan, atau sertifikasi perangkat.
Penerapan dan keterbatasan
- Pelapisan alat serta komponen
Batas cakupan
Geometri, kebersihan dan kondisi proses memengaruhi cakupan serta adhesi lapisan.
Teknologi yang terhubung
Hubungan terverifikasi belum tersedia untuk profil ini. Kedekatan topik tidak membuktikan kompatibilitas atau ketergantungan.
Buka peta teknologiDasar penjelasan
- 1. What is physical vapour deposition (PVD)? - TWI ↗
TWI
Diakses 2026-10-13. Rujukan saja; aset dan teks asli tidak disalin.