Teknologi.Bagian dari ensiklopedia.onlineCari/
BerandaMaterial rekayasaLow-Stress Silicon Cladding for Surface Finishing Large UVOIR Mirrors
Proyek riset & pengembangan

Low-Stress Silicon Cladding for Surface Finishing Large UVOIR Mirrors

Ringkasan tujuan riset

Cladding silikon rendah tegangan melalui ion-assisted evaporation diteliti sebagai permukaan super-polishable untuk mirror UVOIR ringan berukuran besar.

Material rekayasa1 rujukanProfil diperbarui
Lihat rujukanBandingkan proyek
Linimasa NASA TechPort 16654Periode tercatat 2013-05-23 sampai 2013-11-23. TRL: awal 3, saat akses 4, target 4. Target bukan hasil.NASA TechPort 16654MulaiAkhir tercatat201320142013-05-232013-11-23TRL 1–9Awal3Saat akses4Target4
Linimasa dan catatan proyek

Tanggal dan TRL menurut catatan penerbit. Akhir periode dan target bukan bukti hasil riset.

Teknologi · CC BY 4.0 · Sumber data

Apa tujuan dan pendekatan risetnya?

Profil ini merangkum ruang lingkup proyek yang dipublikasikan NASA TechPort. Sumber diakses . Uraian pendekatan dan manfaat menyatakan tujuan pengembangan, kecuali sumber secara khusus melaporkan hasil.

Pelapisan silikon CVD yang sangat stressed dapat membengkokkan cermin ringan dan mengubah figure-nya. ZeCoat memakai evaporasi suhu rendah dengan bantuan ion untuk mengatur tegangan dari kompresif ke tarik. Penyeimbangan lapisan diarahkan menghasilkan net stress mendekati nol sambil menyediakan permukaan yang dapat dipoles. Proses dirancang diskalakan ke mirror SiC berdiameter besar, dengan affordability serta mutu finish diperiksa bersama kestabilan bentuk. Pengembangan tidak menganggap ketebalan coating saja menentukan kualitas permukaan optiknya.

Baca uraian penerbit

Konteks pengembangan

Institusi pemimpin
ZeCoat Corporation
Program
Small Business Innovation Research/Small Business Tech Transfer
Periode proyek
2013-05-23 → 2013-11-23

Klasifikasi NASA

  • TX08.2.1 — Mirror Systems

Label penerbit dipertahankan sebagai konteks. Bidang katalog merupakan pengelompokan editorial.

Apa yang diketahui tentang statusnya?

Status proyek menurut NASACompleted
Awal proyekTRL 3
Tercatat saat aksesTRL 4
Target akhirTRL 4

TRL adalah tingkat kesiapan teknologi yang dilaporkan penerbit, pada skala 1–9. Nilai target akhir menunjukkan sasaran. Status “Completed” berarti proyek telah selesai menurut pencatatan NASA; status tersebut tidak membuktikan bahwa seluruh sasaran kinerja telah tercapai.

Batas informasi

Profil ini menjelaskan ruang lingkup riset dari catatan penerbit. Target pengembangan dan TRL akhir bukan bukti keberhasilan, ketersediaan produk, atau kelayakan penerapan. Tinjauan ahli dan pengujian performa independen belum dilakukan.

Dasar profil

Metodologi dan batas pemeriksaan. Ringkasan berbahasa Indonesia disusun sebagai parafrasa editorial dengan pemeriksaan sumber primer oleh agen AI. Identitas, periode, serta status berasal dari catatan penerbit. Tinjauan ahli dan pengujian kinerja independen belum dilakukan; rujukan tidak menyiratkan dukungan atau sertifikasi NASA.