Tanggal dan TRL menurut catatan penerbit. Akhir periode dan target bukan bukti hasil riset.
Teknologi · CC BY 4.0 · Sumber data
Apa tujuan dan pendekatan risetnya?
Profil ini merangkum ruang lingkup proyek yang dipublikasikan NASA TechPort. Sumber diakses . Uraian pendekatan dan manfaat menyatakan tujuan pengembangan, kecuali sumber secara khusus melaporkan hasil.
Proyek menyusun rangkaian manufaktur yang menggabungkan SLM, electropolishing, dan pelapisan tipis seragam melalui ALD. Nosel pendorong skala kecil menjadi demonstrator untuk pemeriksaan proses. Substrat baja tahan karat, tungsten, dan matriks tungsten titanium karbida dipertimbangkan dengan lapisan oksida iridium pada tahap awal. Lapisan yttria stabilized zirconia serta yttria menjadi jalur berikutnya. Pengembangan mengevaluasi penghalusan dan perlindungan pada beberapa bahan, dengan biaya lebih rendah serta ketelitian komponen sebagai tujuan yang harus diperiksa melalui hasil fabrikasi.
Konteks pengembangan
- Institusi pemimpin
- Summit Information Solutions, Inc.
- Program
- Small Business Innovation Research/Small Business Tech Transfer
- Periode proyek
- 2015-06-17 → 2015-12-17
Klasifikasi NASA
- TX12.2.5 — Innovative and Multifunctional Concepts
Label penerbit dipertahankan sebagai konteks. Bidang katalog merupakan pengelompokan editorial.
Apa yang diketahui tentang statusnya?
TRL adalah tingkat kesiapan teknologi yang dilaporkan penerbit, pada skala 1–9. Nilai target akhir menunjukkan sasaran. Status “Completed” berarti proyek telah selesai menurut pencatatan NASA; status tersebut tidak membuktikan bahwa seluruh sasaran kinerja telah tercapai.
Batas informasi
Profil ini menjelaskan ruang lingkup riset dari catatan penerbit. Target pengembangan dan TRL akhir bukan bukti keberhasilan, ketersediaan produk, atau kelayakan penerapan. Tinjauan ahli dan pengujian performa independen belum dilakukan.
Dasar profil
- NASA TechPort: A Low-Cost Method for Coating of Selective Laser Melting (SLM) Manufacturing of Complex High-Precision Components for Spaceflight Applications Using Atomic Layer Deposition (ALD) ↗
NASA TechPort · Pembaruan sumber 01/22/26
Diakses 2026-10-13. Rujukan primer dengan atribusi. Uraian Indonesia adalah parafrasa editorial; hak dokumen dan aset upstream mengikuti pemiliknya.