Tanggal dan TRL menurut catatan penerbit. Akhir periode dan target bukan bukti hasil riset.
Teknologi · CC BY 4.0 · Sumber data
Apa tujuan dan pendekatan risetnya?
Profil ini merangkum ruang lingkup proyek yang dipublikasikan NASA TechPort. Sumber diakses . Uraian pendekatan dan manfaat menyatakan tujuan pengembangan, kecuali sumber secara khusus melaporkan hasil.
Proyek mengembangkan proses deposisi untuk lapisan ZrON/ZrO2 pada komponen seperti injektor, ruang bakar, dan nosel. Nukleasi, pertumbuhan butir, serta ukuran butir dikendalikan untuk membentuk fase zirkonia kubik yang padat. Lapisan transisi ZrON bergradasi pada antarmuka logam ditujukan untuk membantu adhesi dan membagi tegangan termal. Proses dasar disusun lalu beberapa komponen logam dilapisi untuk evaluasi NASA. Ketahanan panas serta umur lapisan yang lebih baik merupakan sasaran yang harus dibandingkan melalui pengujian.
Konteks pengembangan
- Institusi pemimpin
- Spire Corporation
- Program
- Small Business Innovation Research/Small Business Tech Transfer
- Periode proyek
- 2011-02-18 → 2011-09-29
Klasifikasi NASA
- TX01.1.3 — Cryogenic Propulsion
Label penerbit dipertahankan sebagai konteks. Bidang katalog merupakan pengelompokan editorial.
Apa yang diketahui tentang statusnya?
TRL adalah tingkat kesiapan teknologi yang dilaporkan penerbit, pada skala 1–9. Nilai target akhir menunjukkan sasaran. Status “Completed” berarti proyek telah selesai menurut pencatatan NASA; status tersebut tidak membuktikan bahwa seluruh sasaran kinerja telah tercapai.
Batas informasi
Profil ini menjelaskan ruang lingkup riset dari catatan penerbit. Target pengembangan dan TRL akhir bukan bukti keberhasilan, ketersediaan produk, atau kelayakan penerapan. Tinjauan ahli dan pengujian performa independen belum dilakukan.
Dasar profil
- NASA TechPort: High Temperature Resistant Zirconia Coating for In-space Propulsion ↗
NASA TechPort · Pembaruan sumber 01/22/26
Diakses 2026-10-13. Rujukan primer dengan atribusi. Uraian Indonesia adalah parafrasa editorial; hak dokumen dan aset upstream mengikuti pemiliknya.